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Detalhes Referência

Tipo
Artigos em Revista

Tipo de Documento
Artigo Completo

Título
Role of the rf Frequency on the Structure and Composition of Polymorphous Silicon films

Participantes na publicação
H. Águas (Author)
L. Raniero (Author)
L. Pereira (Author)
A. S. Viana (Author)
Dep. Química e Bioquímica
E. Fortunato (Author)
R. Martins. (Author)

Data de Publicação
2004

Suporte
MATERIALS SCIENCE FORUM

Identificadores da Publicação
ISSN - 0255-5476

Volume
338-340

Página Inicial
183
Página Final
187

Identificadores do Documento
DOI - https://doi.org/10.1016/j.jnoncrysol.2004.02.049


Exportar referência

APA
H. Águas, L. Raniero, L. Pereira, A. S. Viana, E. Fortunato, R. Martins., (2004). Role of the rf Frequency on the Structure and Composition of Polymorphous Silicon films . MATERIALS SCIENCE FORUM, 338-340, 183-187. ISSN 0255-5476. eISSN .

IEEE
H. Águas, L. Raniero, L. Pereira, A. S. Viana, E. Fortunato, R. Martins., "Role of the rf Frequency on the Structure and Composition of Polymorphous Silicon films " in MATERIALS SCIENCE FORUM, vol. 338-340, pp. 183-187, 2004. 10.1016/j.jnoncrysol.2004.02.049

BIBTEX
@article{24363, author = {H. Águas and L. Raniero and L. Pereira and A. S. Viana and E. Fortunato and R. Martins.}, title = {Role of the rf Frequency on the Structure and Composition of Polymorphous Silicon films }, journal = {MATERIALS SCIENCE FORUM}, year = 2004, pages = { 183-187}, volume = 338-340 }