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Detalhes Referência

Tipo
Artigos em Revista

Tipo de Documento
Artigo Completo

Título
Influence of O2 partial pressure on the growth of nanostructured anatase phase TiO2 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering

Participantes na publicação
S. Sério (Author)
M.E. Melo Jorge (Author)
Dep. Química e Bioquímica
M.J.P. Maneira (Author)
Y. Nunes (Author)

Data de Publicação
2011-03

Suporte
Materials Chemistry and Physics

Identificadores da Publicação

Editora
Elsevier BV

Volume
126
Fascículo
1-2

Número de Páginas
8
Página Inicial
73
Página Final
81

Identificadores do Documento
DOI - https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2010.12.008
URL - http://dx.doi.org/10.1016/j.matchemphys.2010.12.008


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APA
S. Sério, M.E. Melo Jorge, M.J.P. Maneira, Y. Nunes, (2011). Influence of O2 partial pressure on the growth of nanostructured anatase phase TiO2 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering. Materials Chemistry and Physics, 126, 73-81. http://dx.doi.org/10.1016/j.matchemphys.2010.12.008

IEEE
S. Sério, M.E. Melo Jorge, M.J.P. Maneira, Y. Nunes, "Influence of O2 partial pressure on the growth of nanostructured anatase phase TiO2 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering" in Materials Chemistry and Physics, vol. 126, pp. 73-81, 2011. 10.1016/j.matchemphys.2010.12.008

BIBTEX
@article{49757, author = {S. Sério and M.E. Melo Jorge and M.J.P. Maneira and Y. Nunes}, title = {Influence of O2 partial pressure on the growth of nanostructured anatase phase TiO2 thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering}, journal = {Materials Chemistry and Physics}, year = 2011, pages = {73-81}, volume = 126 }