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Detalhes Referência

Tipo
Artigos em Revista

Tipo de Documento
Artigo Completo

Título
Oxygen redistribution during diffusion in thin silicon layers

Participantes na publicação
J. M. Serra (Author)
Dep. Engenharia Geográfica, Geofísica e Energia
IDL
A.M. Vallera (Author)
Dep. Engenharia Geográfica, Geofísica e Energia
SESUL

Data de Publicação
1996

Suporte
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-ADVANCED FUNCTIONAL SOLID-STATE MATERIALS

Identificadores da Publicação
ISSN - 0921-5107

Local
LAUSANNE, SWITZERLAND

Editora
Elsevier Science

Volume
36
Fascículo
1-3

Página Inicial
175
Página Final
178

Identificadores do Documento
DOI - https://doi.org/10.1016/0921-5107(95)01305-9

Identificadores de Qualidade
SCOPUS Q1 (2013) - 0.747 - Mechanical Engineering

Keywords
Diffusion Oxygen Silicon Thin films


Exportar referência

APA
J. M. Serra, A.M. Vallera, (1996). Oxygen redistribution during diffusion in thin silicon layers. MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-ADVANCED FUNCTIONAL SOLID-STATE MATERIALS, 36, 175-178. ISSN 0921-5107. eISSN .

IEEE
J. M. Serra, A.M. Vallera, "Oxygen redistribution during diffusion in thin silicon layers" in MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-ADVANCED FUNCTIONAL SOLID-STATE MATERIALS, vol. 36, pp. 175-178, 1996. 10.1016/0921-5107(95)01305-9

BIBTEX
@article{34512, author = {J. M. Serra and A.M. Vallera}, title = {Oxygen redistribution during diffusion in thin silicon layers}, journal = {MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-ADVANCED FUNCTIONAL SOLID-STATE MATERIALS}, year = 1996, pages = {175-178}, volume = 36 }